两种技术路线，都有很大的问题，接下来用什么技术路线，非常关键！

“嗯，我们开辟新的赛道。”秦川说道：“我们在ArF光刻机的基础上，镜头和光源之间加一层水，通过水的折射作用，把193纳米光源降低到134纳米。”

什么？

徐教授惊呆了，倪老也惊呆了。

这不是开玩笑吗？在精密的光刻机镜头上，加一层水？

万一这层水要是漏了，岂不是会让光刻机坏掉？万一水里有一个气泡，岂不是会改变光线的路径，从而导致整个硅片都报废？

193纳米以下光源技术，困扰了整个光刻机行业很多年！

尼康、佳能这些光刻机巨头，坚定地走157纳米光源道路，结果……技术路线错误，耗费巨资研制出来的157纳米光刻机，没得到一个订单！这些巨头也因此而衰落。

后世大名鼎鼎的ASML，就是因为押宝浸润式光刻机，取得了圆满成功，赢家通吃，彻底占领光刻机市场！

秦川不懂造芯片，但是基本的路线还是知道的。而且，他还知道其中一个关键人物：林本坚！

林本坚，湾湾人，1970年从湾湾毕业之后，就去了俄亥俄州立大学读研，老师就是光刻机领域里的技术泰斗：帕特里克-怀特博士。在导师的带领下，他们团队研制出来了深紫外光源，从248纳米进步到了193纳米。

林本坚毕业后，先加入了IBM公司，之后又在IBM旗下的领创公司工作，继续捣鼓光刻机技术，当光刻机技术在193纳米光源面前停滞不前的时候，他提出来了浸润式技术，也就是把光源和镜头泡在水里，从而将光源波长缩短。

可惜，他四处碰壁，IBM不要，之后他新加入的台积电也不要，他只能跑去给默默无名的ASML推销，然后，ASML就成功了！

嗯，这个人也必须要弄到手，如果他不来，就干掉他，总之，这条技术路线，不能让其他光刻机厂商走，尤其是ASML！