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龙腾实验室。

“成功了！”

“成功了！”

“我终于把光刻机给搞了出来！”

龙腾看着眼前的这台光刻机，他一脸的喜悦！

经过一段时间的研发，他终于将光刻机的所有技术难关攻克，并且‘手搓’了这台光刻机！

虽然这台光刻机是他‘手搓’出来的。

但是，这台光刻机的性能，远远比GCA公司的DSW4800光刻机高了许多许多。

虽然GCA公司出品的DSW4800光刻机是这世界上第一款自动化步进投影式光刻机，也是这世界上第一款现代意义上的光刻机，后续的光刻机基本上都属于这种类型！

但是，DSW4800光刻机采用的光源是可见光光源，波长特别的长，波长范围在390纳米到780纳米之间。

虽然可见光的波长能够达到500纳米以下。

但是，DSW4800光刻机还没有办法将光刻精度做到500纳米以下。

DSW4800光刻机的光刻精度目前是600多纳米。

而龙腾这次研发出来的光刻机，采用的是高压汞灯产生的紫外光光源！

紫外光的波长比可见光的波长短了不少，波长范围在100纳米到400纳米之间。

所以，龙腾这次研发出来的光刻机，光刻精度做到了400纳米以下，只有惊人的365纳米！

这个时候，能够做到365纳米这个精度，已经是十分的了不起了！

众所周知，波长越短，光刻分辨率越高，制作出来的芯片体积就越小，单位面积的电路更加的复杂，芯片的性能也就越高。

龙腾这次研发出来的光刻机，应该是这世界上第一台紫外光刻机！

由于龙腾这次研究出来的光刻机，光刻精度比GCA公司出品的DSW4800光刻机，提升了将近一倍。

因此，龙腾研究出来的光刻机，可以生产制造出性能更高的芯片。